На основании многолетнего опыта научно-исследовательских и проектно-конструкторских работ, а также опыта изготовления вакуумных установок и внедрения упрочняющих технологий в производственную практику наиболее целесообразным является применение вакуумной установки с широкими технологическими возможностями. А именно, установка должна содержать ионные источники очистки, электродуговые источники плазмы и магнетронные распылительные системы. Такое применение технологических источников позволяет проводить очистку поверхности, как ионами газа, так и ионами материала катода и формировать однослойные, многослойные, нанокомпозитные вакуумные покрытия, в том числе и на детали с низкой температурой отпуска (нитриды, карбиды, карбонитриды, окислы и др. соединения тугоплавких материалов).

В вакуумном оборудовании ионный источник может работать как в режиме очистки, так и в режиме ассистирования, тем самым покрытия формируются с высокими физико-механическими свойствами. Наличие в установке системы контроля качества очистки поверхности и анализа остаточной среды позволяет контролировать очистку поверхности деталей на атомарном уровне, а также обеспечивает управление основными параметрами технологического процесса в автоматическом режиме с формированием покрытий стехиометричных по составу от цикла к циклу.